Dio Implant - UF(II) Narrow

A legkorszerűbb felületkezelés és a jól átgondolt, menetkialakítás legújabb vívmánya. Az új felület HSA ( hybrid sandblast acid etch) két különböző felületi finomsággal rendelkezik, igazodva a csont szerkezetéhez. Az így kialakított cervicalis harmad (Ra 0.5~1.0㎛) előnye hogy csökkenti a periimpantitis kialakulásának esélyét és a csontveszteség is kisebb. Az appicalis két harmad, az ideális Ra (Ra 2.0~2.5㎛) révén nemcsak az implantátum gyors osseointegrációját segíti, hanem hosszú távú stabilitást is biztosit.

Az UF Implant családnak csak egy önmetsző menete van, nagyobb réssel a menetek között, és eltérő menetmélységgel, ezzel gyorsítva a behelyezést, nem rendelkezik mikro menettel ezáltal nincs túlmelegedés a betekeréskor.

A nyitott meneteknek és a formának köszönhetően minimális ellenállással tekerhető be, valamint szükség esetén mélyebbre helyezhető fúrás nélkül. Az új formának, ill. az új felületnek köszönhetően a gyógyulási idő szemben a tapasztalatokkal az eddigi 12-16 hétről 8-10 hétre rövidül.

• Less friction around cortical bone promotes less bone loss.

• The ideal surface rughness of Ra.2.0 ~ 2.5㎛ not only promotes rapid osseointegration but also long-term statibility.

A kapcsolat implant és felépítmény között:

A 11 ° Morse kúp, valamint az implantátum és felépítmény azonos anyaga, mely hidegsajtolással kapcsolódik egymáshoz
(a megfelelő nyomaték elérésekor) biztosítja a hermetikus záródást. Ezen záródás valamint a megfelelő terhelés elosztás garantálja a minimális csontveszteséget és a hosszú távú stabilitást.